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產(chǎn)品展示/ Product display

您的位置:首頁  /  產(chǎn)品展示  /  分散機(jī)  /  研磨分散設(shè)備  /  GMD2000硫酸鋇研磨高速分散機(jī)

硫酸鋇研磨高速分散機(jī)

硫酸鋇研磨高速分散機(jī),對于硫酸鋇溶液的生產(chǎn),目前許多廠家采用國產(chǎn)膠體磨生產(chǎn),由于國產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn),生產(chǎn)出來的硫酸鋇溶液粒徑一般在20μm左右,而且生產(chǎn)效果很低,需要研磨5-6小時(shí)。而使用SGN研磨分散機(jī)進(jìn)行處理,研磨兩遍,粒徑可以細(xì)化到5μm,效果好,效率高。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2025-11-17
  • 訪  問  量:214
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詳細(xì)介紹

硫酸鋇研磨高速分散機(jī)

研磨分散機(jī)是將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,效果遠(yuǎn)遠(yuǎn)好于單臺膠體磨處理的效果,研磨分散機(jī)是一臺目前創(chuàng)新型的研磨分散設(shè)備。

對于硫酸鋇溶液的生產(chǎn),目前許多廠家采用國產(chǎn)膠體磨生產(chǎn),由于國產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn),生產(chǎn)出來的硫酸鋇溶液粒徑一般在20μm左右,而且生產(chǎn)效果很低,需要研磨5-6小時(shí)。而使用SID研磨分散機(jī)進(jìn)行處理,研磨兩遍,粒徑可以細(xì)化到5μm,效果好,效率高。

硫酸鋇研磨高速分散機(jī)


硫酸鋇GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)


硫酸鋇研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

①   線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

硫酸鋇研磨高速分散機(jī)


硫酸鋇研磨高速分散機(jī)設(shè)備選型表:

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。


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